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集成电路封装与三维集成 丁英涛 张子岳 陈志铭 严阳阳 高等教育出版社
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商品名称:集成电路封装与三维集成
ISBN:9787895660441
出版社:高等教育出版社
出版年月:2024-12
作者:丁英涛 张子岳 陈志铭 严阳阳
定价:30.00
页码
装帧
版次:0版0次
字数:200
开本
套装书:否

2.数字教材使用说明 (2).jpg

云创数字教材平台:https://etextbook.hep.com.cn/ 


  随着摩尔定律逐渐逼近极限,集成电路封装技术特别是先进封装技术,通过采用更先进的设计思路和集成工艺对芯片进行封装级重构,已经发展成为支撑全球集成电路产业持续发展的重要力量。本书主要围绕先进封装技术特别是三维集成技术,在系统介绍先进封装技术发展脉络的基础上,对硅通孔以及三维集成系统的仿真和建模进行了详细阐述。同时,本书使用大量篇幅详细介绍当前主流消费电子产品中先进封装技术的应用实例,充分展示先进封装技术的行业发展现状。

  本书可作为高等学校集成电路设计与集成系统、微电子科学与工程等相关专业的教学用书,同时适合从事先进封装技术研发的科技人员阅读使用。

丛书序言
前言
第一章 绪论
  1.1 集成电路发展历史及趋势
  1.2 封装技术发展历史及趋势
  1.3 集成电路封装类型简介
  1.4 传统封装关键工艺及典型流程
第二章 先进封装技术及关键工艺
  2.1 先进封装技术概述
  2.2 倒装芯片工艺流程与技术
  2.3 晶圆级芯片封装工艺流程与技术
  2.4 叠层封装工艺流程与技术
第三章 三维集成技术
  3.1 三维集成技术概述
  3.2 三维集成系统工艺
  3.3 三维集成应用现状及发展展望
第四章 三维集成关键制造工艺技术
  4.1 硅基深反应离子刻蚀工艺
  4.2 介质材料制备工艺
  4.3 键合微凸块制备工艺
  4.4 晶圆减薄与抛光工艺
  4.5 晶圆键合工艺
  4.6 晶圆切割与划片工艺
第五章 硅通孔垂直互连的制造工艺与测试
  5.1 TSV的概念及特点
  5.2 TSV的制造工艺流程
  5.3 新型TSV的制造工艺流程
  5.4 TSV的电学测试
第六章 硅通孔垂直互连的建模与仿真
  6.1 硅通孔的电学建模
  6.2 硅通孔的电学特性仿真
  6.3 硅通孔热-机械应力建模
  6.4 硅通孔热-机械性能仿真
  6.5 硅通孔的多物理场可靠性仿真
第七章 三维集成系统的建模与仿真
  7.1 三维集成系统信号完整性建模与仿真
  7.2 同质化等效理论
  7.3 同质化等效建模
  7.4 三维集成系统热机械性能的仿真分析

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